د لوړ پاکوالي سلفر

تفصیل

د لوړ پاکوالي سلفر 5N 6Nیا د لوړ پاکوالی سلفر د خټکي نقطه 112.8 ° C او کثافت 2.36g/cm سره یو روښانه ژیړ ټوټه غیر فلزي کرسټال دی³، کوم چې په کاربن ډیسلفایډ او ایتانول کې منحل کیږي مګر په اوبو کې نه منحل کیږي ، او کولی شي په اکسیجن کې په قوي توګه سوځیدونکي تودوخې تولید کړي.سلفر غیر معمولي نظری او بریښنایی ځانګړتیاوې لري او یو ښه بریښنایی انسولټر دی. د لوړ پاکوالي سلفر تر 99.999٪ او 99.9999٪ څخه ډیر پاکوالی په مختلفو ډولونو پوډر، لوند، دانه، فلیک او ټابلیټ او داسې نورو کې د اصلاح او ځانګړي پاکولو تخنیکونو په واسطه ترلاسه کیدی شي.د لوړ پاکوالي سلفر 5N 6N په ویسټرن مین میټلز (SC) کارپوریشن کې د 99.999٪ او 99.9999٪ پاکوالي سره د پوډر ، دانه ، لونګ ، ټابلیټ او ګولۍ په اندازې کې وړاندیز کیدی شي کوم چې په خالي جامع المونیم کڅوړه کې بسته شوي ، یا د کارټون بکس سره د پولیټین بوتل. بهر یا د مناسب حل لپاره د دودیز مشخصاتو په توګه.

غوښتنلیکونه

د لوړ پاکوالي سلفر په اصل کې د II-VI ګروپ مرکب سیمیکمډکټرونو کیډیمیم سلفایډ CdS ، آرسنیک سلفایډ په چمتو کولو کې کارول کیږي.₂S₃, ګیلیم سلفایډ Ga₂S₃, Titanium سلفایډ TiS₂، سیلینیم سلفایډ SeS₂بیس مواد او همدارنګه د څو عنصر سلفایډ مرکب الکترود مواد، او همدارنګه په لویه کچه د فوتو الیکټریک وسیلو لپاره، د شیشې سیمیکمډکټر عناصر، د CIS مسو انډیم سلفر پتلی فلم سولر سیل او د معیاري نمونې تحلیلي کیلیبریشن نمونې په توګه.

اوس پوښتنه وکړئ

جزیات

ټګونه

تخنیکي مشخصات

S

اټومي نمبر	16
اټومي وزن	32.06
کثافت	2.36g/cm³
د وېلې کېدو نقطه	112.8 درجې سانتي ګراد
د اېشېدلو ټکی	444.6 درجې سانتي ګراد
CAS شمیره	7704-34-9
د HS کوډ	2802.0000.00

اجناس	معیاري مشخصات
	پاکوالی		ناپاکۍ (ICP-MS یا GDMS ټیسټ راپور، PPM Max هر یو)
لوړ پاکوالی سلفر	5N	99.999%	Al/Fe/Ni/Zn/As/Co/Mn/Pb/Sn 0.5, Cu 0.2, Se 1.0, Si 1.5	ټول ≤10
	6N	99.9999%	Al/Fe/Ni/Zn/Sn/Si 0.1, As 0.2, Cu/Co/Mn/Pb/Cd 0.05	ټول ≤1.0
	اندازه		-60 میش پوډر، د D2-7mm ټابلیټ، 0.5-5.0mm یا ≤25mm غیر منظم لوټ
	بسته بندي		1 کیلو ګرامه په پولیتیلین بوتل کې د جامع کڅوړې سره بهر
	تبصره		دودیز مشخصات د غوښتنې پراساس شتون لري

د لوړ پاکوالي سلفرپه عمده توګه د II-VI ګروپ مرکب سیمیکمډکټرونو کیډیمیم سلفایډ CdS په چمتو کولو کې کارول کیږي ، آرسنیک سلفایډ₂S₃, ګیلیم سلفایډ Ga₂S₃, Titanium سلفایډ TiS₂، سیلینیم سلفایډ SeS₂بیس مواد او همدارنګه د څو عنصر سلفایډ مرکب الکترود مواد، او همدارنګه په لویه کچه د فوتو الیکټریک وسیلو لپاره، د شیشې سیمیکمډکټر عناصر، د CIS مسو انډیم سلفر پتلی فلم سولر سیل او د معیاري نمونې تحلیلي کیلیبریشن نمونې په توګه.

د لوړ پاکوالي سلفر 5N 6Nپه ویسټرن مین میټلز (SC) کارپوریشن کې د 99.999٪ او 99.9999٪ پاکوالي سره د پوډر ، دانه ، ټوټو ، ټابلیټ او ګولۍ په اندازې کې وړاندیز کیدی شي چې په خالي جامع المونیم کڅوړه کې بسته شوي ، یا د پولیټین بوتل بهر د کارتن بکس سره ، یا د مناسب حل لپاره د دودیز مشخصاتو په توګه.